材料科学论文_空间应用光学聚酰亚胺薄膜抗原子 - 应用光学杂志社投稿

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材料科学论文_空间应用光学聚酰亚胺薄膜抗原子

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摘要

Abstract

第1章绪论

1.1 空间光学聚酰亚胺薄膜的研究背景和意义

1.2 空间光学聚酰亚胺薄膜的国内外研究现状

1.3 本论文的研究目标和主要研究内容

第2章有成像潜力的聚酰亚胺薄膜的制备和性能

2.1 引言

2.2 实验

2.2.1 材料与溶剂

2.2.2 聚酰胺酸胶液的制备

2.2.3 光学聚酰亚胺薄膜的旋涂

2.2.4 表征

2.3 结果与讨论

2.3.1 FTIR分析

2.3.2 热性能分析

2.3.3 力学性能分析

2.3.4 薄膜透过率表征

2.3.5 薄膜光学均匀性

2.4 小结

第3章 (A3+B3)型光学均匀的抗原子氧聚酰亚胺杂化薄膜

3.1 引言

3.2 实验

3.2.1 主要实验试剂

3.2.2 二氨基POSS的合成

3.2.3 杂化膜的制备

3.2.4 表征

3.3 结果与讨论

3.3.1 三官能团单体的水解缩聚合的影响因素

3.3.2 二氨基POSS的结构表征

3.3.3 杂化膜的透过率

3.3.4 杂化膜的AO耐受性

3.3.5 杂化膜XPS分析

3.3.6 杂化膜的光学均匀性

3.3.7 杂化膜的热性能

3.3.8 POSS PI薄膜的力学性能

3.4 小结

第4章 (A2+B3)型光学均匀的抗原子氧聚酰亚胺杂化薄膜

4.1 引言

4.2 实验

4.2.1 主要实验试剂

4.2.2 二胺的合成

4.2.3 聚硅氧烷/聚酰亚胺杂化薄膜的制备

4.2.4 表征

4.3 结果与讨论

4.3.1 NH_2-HBPSi的表征

4.3.2 杂化膜在地面模拟原子氧环境中的AO耐受性

4.3.3 杂化膜XPS分析

4.3.4 杂化膜在原子氧辐照前后透过率的变化

4.3.5 杂化膜的光学均匀性

4.3.6 杂化膜的热性能

4.3.7 HBPSi PI薄膜的力学性能

4.4 小结

第5章 (A2+B3+C4)型光学均匀的抗原子氧聚酰亚胺杂化薄膜

5.1 引言

5.2 实验

5.2.1 实验试剂

5.2.2 聚酰胺酸和光学聚酰胺酸薄膜旋涂

5.2.3 表征

5.3 结果与讨论

5.3.1 NH_2-HBPSi的表征

5.3.2 杂化膜的X射线衍射分析

5.3.3 杂化膜的FT-IR分析

5.3.4 杂化膜的透过率曲线

5.3.5 杂化膜的光学均匀性

5.3.6 转速和黏度对杂化膜厚度的影响

5.3.7 HBPSi PI薄膜的力学性能

5.3.8 杂化膜在地面模拟原子氧环境中的AO耐受性

5.3.9 杂化膜XPS分析

5.3.10 杂化膜表面形貌分析

5.3.11 杂化膜的热性能

5.4 小结

第6章 (A2'+B3'+C4)型光学均匀的抗原子氧聚酰亚胺杂化薄膜

6.1 引言

6.2 实验

6.2.1 主要实验试剂

6.2.2 合成方法

6.2.3 表征

6.3 结果与讨论

6.3.1 HBPSi合成的三个阶段及影响因素

6.3.2 杂化膜在地面模拟原子氧环境中的AO耐受性

6.3.3 杂化膜XPS分析

6.3.4 杂化膜在原子氧辐照前后透过率的变化

6.3.5 杂化膜的光学均匀性

6.3.6 杂化膜的热性能

6.3.7 HBPSi PI薄膜的力学性能

6.4 小结

第7章总结与展望

7.1 主要工作

7.2 本论文的创新点

7.3 论文工作的不足和展望

参考文献

附录

致谢

作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果

文章摘要:聚酰亚胺（PI）薄膜因其具有优良的机械性能、良好的热性能等性能,在航空航天领域应用广泛,但应用在空间光学成像方面的报道极少。要将PI薄膜用于空间成像,对其本身的抗原子氧（AO）性能、光学均匀性、尺寸稳定性以及力学性能等要求极为苛刻。论文的主要研究内容包括以下几个部分:1.本文实现了100mm口径低热膨胀系数抗拉伸PI薄膜的光学均匀性满足瑞利判据,具有成像领域应用的潜力。除了光学均匀性之外,该PI薄膜的拉伸强度为285MPa,是PMDA-ODA型PI薄膜的拉伸强度的～2.6倍;热膨胀系数约为3.2 ppm·K

文章来源：《应用光学》网址: http://www.yygxzzs.cn/qikandaodu/2022/0210/537.html